手機(jī)玻璃磨削減薄行業(yè)技術(shù)特點(diǎn)
宇環(huán)新聞
2022-10-10 09:46
手機(jī)玻璃磨削減薄行業(yè)技術(shù)特點(diǎn)：
隨著信息技術(shù)的發(fā)展，消費(fèi)者對(duì)智能手機(jī)、平板電腦等輕薄大型消費(fèi)電子產(chǎn)品的需求越來越大。FPD光學(xué)玻璃精加工的市場(chǎng)規(guī)模越來越大，具有非常廣闊的市場(chǎng)前景，這也將帶動(dòng)FPD光學(xué)玻璃精加工行業(yè)技術(shù)的快速發(fā)展。未來手機(jī)玻璃磨削減薄行業(yè)的發(fā)展特點(diǎn)如下:
目前，液晶面板的厚度減少了50%以上，約為0.4mm到0.5mm，液晶面板的質(zhì)量有了很大的提高。未來，在高質(zhì)量和薄度的要求下，液晶面板應(yīng)該從0.4mm(或以上)進(jìn)一步薄到0.3mm以下。
ITO導(dǎo)電手機(jī)玻璃磨削減薄產(chǎn)品已從普通的TN/STN型發(fā)展到中高檔的TN/STN型。STN型產(chǎn)品主要是低阻ITO導(dǎo)電玻璃，其方電阻值通常低于10歐姆/cm2.對(duì)ITO膜厚和表面缺陷要求高，技術(shù)難度大。
觸摸屏用ITO導(dǎo)電膜玻璃要求電阻高、電阻均勻性好、透光率高。其電阻值約為500 ohm /cm2.電阻均勻度在±10%以內(nèi)。這很難做。另外，觸摸屏還部分采用了聚對(duì)苯二甲酸塑料等材料，在聚對(duì)苯二甲酸塑料等材料的涂布上需要采用卷繞涂布技術(shù)，對(duì)技術(shù)要求也很高。
通常，ITO涂層手機(jī)玻璃磨削減薄在玻璃溫度350℃左右進(jìn)行。對(duì)于TFT-LCD，由于液晶公差溫度有限，需要采用低溫ITO涂層技術(shù)。工業(yè)中低溫ITO涂層的溫度通常在100℃以下。同時(shí)，為了保證彩色濾光玻璃的ITO膜層的電阻率、透過率和耐化學(xué)性，在彩色濾光片上鍍ITO膜要采用特殊的低溫ITO鍍膜技術(shù)。
手機(jī)玻璃磨削減薄技術(shù)原理與ITO鍍膜基本相同，但對(duì)胞上驅(qū)動(dòng)要求較高，電阻25-30歐姆。鍍膜工藝采用多陰極工藝。為了防止接觸線短路和側(cè)面腐蝕，薄膜厚度為1300±200安培，比普通ITO涂層薄膜更難實(shí)現(xiàn)。
在抗干擾高阻鍍膜中，它是一種新型的替代偏光片抗干擾防靜電技術(shù)，特點(diǎn)是直接在液晶玻璃的表面形成內(nèi)部鍍膜，具體為在鍍膜前使用真空等離子清洗，將In - In - Cell基片表面清洗干凈，去除雜質(zhì)，然后再采用鍍膜的方法進(jìn)行鍍膜。過程中加入氧氣等反應(yīng)性氣體，形成具有防觸碰信號(hào)干擾和防靜電功能的薄膜。電阻達(dá)到10^8歐姆，透光率98%，抗靜電能力達(dá)到8KV以上。一般可分為胞內(nèi)超高群磁控濺射法、胞內(nèi)超高群線材濺射法、胞內(nèi)超高群激光蒸發(fā)鍍膜法等。胞內(nèi)抗干擾高阻涂層技術(shù)難度較大，掌握該技術(shù)的企業(yè)很少。
