FPD光電手機(jī)玻璃磨削減薄工藝
宇環(huán)新聞
2022-10-10 09:39
FPD光電手機(jī)玻璃磨削減薄工藝
FPD光電手機(jī)玻璃磨削減薄分為化學(xué)腐蝕減薄和物理研磨減薄。目前，F(xiàn)PD光電組合手機(jī)玻璃磨削減薄被廣泛應(yīng)用。
化學(xué)蝕刻減薄技術(shù)是基于氫氟酸化學(xué)溶液與玻璃板表面的二氧化硅(SiO2)發(fā)生反應(yīng)使其溶解，通過蝕刻襯底使玻璃厚度變薄的原理。物理研磨減薄技術(shù)是通過機(jī)械研磨在玻璃基板上，通過物理的方式使顯示面板變薄。目前，物理研磨減薄技術(shù)主要以機(jī)械拋光的方式進(jìn)行，通過利用拋光粉與水形成拋光液的加工介質(zhì)，流過機(jī)器在一定的壓力下被服務(wù)和顯示面板，機(jī)會做相對的運動操作，因此直接接觸到堅硬的磨料玻璃表面和顯示面板的切割面的厚度，也可以利用這一工藝的原理，做短時間的拋光，減少表面痕，優(yōu)化顯示面板的表面質(zhì)量。
雖然采用物理研磨法對顯示面板進(jìn)行薄化是可行的，但由于薄基板通常較大，物理研磨法的生產(chǎn)效率較低，成本較高。目前，手機(jī)玻璃磨削減薄主要以化學(xué)蝕刻為主，輔以物理研磨對蝕刻玻璃表面進(jìn)行修復(fù)。
ITO涂層是一種磁控濺射鍍在玻璃基板表面的透明導(dǎo)電薄膜。ITO膜的主要成分是氧化銦錫，主要起到防靜電的作用。
磁控濺射是指利用磁場和電場的相互作用，使電子在靶表面附近以螺旋形運行，從而增加電子與氬碰撞產(chǎn)生離子的概率，產(chǎn)生的離子在電場的作用下與靶表面發(fā)生碰撞，濺射出靶原子或分子的過程。它的工作原理:在二極管濺射靶材料中(在真空環(huán)境中采用粒子轟擊使來自靶固體表面的原子或分子發(fā)射出一種濺射效應(yīng)，通過在靶表面上增加一個平行于封閉磁場而產(chǎn)生的濺射效應(yīng)，借助靶表面形成的正交電磁場，二次電子結(jié)合的比面積來增強(qiáng)靶表面的電離效率，增加離子密度和能量，從而實現(xiàn)了高速率濺射過程。磁控濺射具有成膜率高、基材溫度低、薄膜附著力好、鍍膜面積大等特點。ITO鍍膜現(xiàn)在主要有高溫鍍膜和低溫鍍膜兩種方式，TFT-LCD玻璃基板ITO鍍膜是在玻璃基板盒上鍍膜，由于液晶的耐受溫度有限，所以只能低溫鍍膜，而低溫鍍膜的ITO膜附著力較差，鍍膜過程中對溫度控制、濺射速率、沉積速率、工作壓力等因素有嚴(yán)格要求，這需要在過程細(xì)節(jié)中發(fā)展和積累。ITO涂料公司采用低溫涂料，可在80℃以下的溫度下進(jìn)行涂料。
